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多晶矽蝕刻液應(yīng)用於半導(dǎo)體製程、矽晶圓拋光等製程。可依據(jù)客戶(hù)需求提供客製化蝕刻液。

金蝕刻液應(yīng)用光電相關(guān)產(chǎn)業(yè)等製程。可依據(jù)客戶(hù)需求提供客製化蝕刻液。

鉻蝕刻液應(yīng)用光電相關(guān)產(chǎn)業(yè)等製程。可依據(jù)客戶(hù)需求提供客製化蝕刻液。

氧化銦錫刻液應(yīng)用光電相關(guān)產(chǎn)業(yè)等製程。可依據(jù)客戶(hù)需求提供客製化蝕刻液。

依照客戶(hù)需求調(diào)配9.9%以下氫氟酸

(10%以上氫氟酸為危害性關(guān)注化學(xué)物質(zhì))

墊底蝕刻液應(yīng)用於光電相關(guān)產(chǎn)業(yè)等製程。可依據(jù)客戶(hù)需求提供客製化蝕刻液。

外觀：無(wú)色透明液體

顏色(APHA)：5以下

含量：99.0%以上

比重：0.862~0.868 g/cm³

 

常用於蝕刻和電鍍。

氟化銨水溶液可用於玻璃蝕刻液。

CAS No.: 12125-01-8

含量：40~41%

HF: 0.2% max

顏色(APHA): 7 max

比重: 1.11

pH: 6.0~7.5

 

 

CAS No.：506-59-2

分子式：(CH3)2NH.HCl

分子量：81.54

性質(zhì)：二甲胺和鹽酸反應(yīng)而成，白色晶體，可溶於水、醇類(lèi)和氯仿。

用途：可使用於助焊劑，亦可用於有機(jī)合成和二甲胺水溶液的製備。

規(guī)格

外觀：白色晶體

pH(5%)：5.0~7.0

乾燥減量(105℃)：2% 以下

灰分：0.2% 以下

含量：98.0% 以上

 

CAS No.：660-68-4

分子式：(CH2CH3)2NH.HCl

分子量：109.60

性質(zhì)：二乙胺和鹽酸反應(yīng)而成，白色晶體，可溶於水、醇類(lèi)和氯仿。

用途：可使用於助焊劑，減少焊料和被焊金屬的表面張力。

規(guī)格

外觀：白色晶體

pH(5%)：4~6

乾燥減量(105℃)：2%以下

灰分：0.2%以下

含量：98.0%以上